← wróć do strony głównej
16222 wykaz 2019

Plasma Chemistry and Plasma Processing

Plasma Chemistry and Plasma Processing

100
punktów MNiSW

Dostaniesz e-mail, gdy zmieni się punktacja tego czasopisma w nowym wykazie. Zapisując się, akceptujesz politykę prywatności.

ISSN / eISSN
0272-4324 / 1572-8986
Wydawca
Springer Verlag
Kolor Open Access
zielony
Z importu Sherpa/Romeo z 15.01.2020, mogło się zmienić - sprawdź aktualną politykę.